甲基全氟異丁基醚/HFE-7100 CAS 163702-08-7
典型特性
| 物品 | 規格 |
| 純度% | ≥99.9 |
| 含水量% | ≤50×10⁻⁴ |
| 酸度(以HF計),ppm | ≤5 |
| 非揮發性殘渣% | ≤0.001 |
| 懸浮物或沉積物 | 無可見 |
| F-離子,ppm | ≤0.01 |
| 氯離子,ppm | ≤0.02 |
全氟異丁基甲基醚(CAS:163702-08-7)是一種無色透明、不易燃、低毒性且環保的氟化醚溶劑。其主要優點包括表面張力低、黏度低、乾燥速度快、絕緣性佳、臭氧消耗潛值零。廣泛應用於電子清洗、熱傳遞、精密製造和日常化工等領域。
主要產品特性
1.安全性和環保性: 不易燃、無毒性、臭氧消耗潛值(ODP)為0、全球暖化潛勢(GWP)低。它符合環境法規,可作為三氯乙烯和正丙基溴等傳統溶劑的有效替代品。
2.卓越的清潔性能: 低表面張力和低黏度的組合確保了其對油污、焊劑、顆粒物和指紋的強大清潔能力。它乾燥迅速且不留殘渣,是精密清潔的理想選擇。
3.隔熱與傳熱: 它具有高介電強度,可進行帶電清洗(在帶電狀態下進行清洗)。其高導熱效率使其成為電子氟化液或浸沒式液體冷卻介質的理想選擇。
4.中等溶解能力: 對氟碳化合物、矽油和油脂具有良好的溶解性,而對極性物質的溶解性較弱。這使其成為選擇性清洗和配製溶劑應用的理想選擇。
5.穩定性: 具有很強的化學惰性;耐酸鹼,不易分解,確保長期使用性能穩定。
主要應用領域
1. 電子與半導體(核心應用)
精密清洗:晶圓、晶片、PCB、FPC、連接器和感測器的清洗、沖洗和脫水。
製程支援:半導體蝕刻、測試和封裝製程的清洗和乾燥。
組件維護:電子元件、光學鏡頭、雷射頭、硬碟和醫療電子產品的清潔。
熱管理:資料中心浸沒式液冷;伺服器和晶片冷卻用導熱流體。
塗層溶劑:用於電子顯示器上的防指紋塗層和氟聚合物塗層的溶劑。
2. 工業與精密製造
元件清洗:汽車電子產品和醫療器材元件的精密清洗。
表面處理:金屬、玻璃和陶瓷的脫脂、脫蠟和氧化物去除。
光學加工:光學透鏡、棱鏡和鍍膜部件的無水清洗和乾燥。
3. 化妝品及個人護理
溶劑和潤濕劑:用於清新潔面乳、卸妝液、止汗劑和護髮產品的低刺激性溶劑或潤濕劑。
配方助劑:適用於化妝品和防曬配方的快乾、不油膩添加物。
4. 其他應用
化學合成:有機合成、氟化精細化學品和藥物中間體的反應溶劑。
維護液:用於儀器和精密機械的防銹液、潤滑液和密封液。
特殊介質:用於特殊場合的無水傳熱、隔熱和洩漏檢測介質。
包裹
250公斤/桶
貯存
請存放於陰涼、通風、乾燥、密封處。遠離火源、熱源和氧化劑。






